产品中心
分级产品策略，精准匹配不同行业与系统位置需求
半导体级
P-3100 H/OH
低析出抛光树脂，适用于半导体前端 Final Polisher 与高要求制程
核心特性
- 冲洗 10 分钟电阻率 ≥18.0 MΩ·cm
- ΔTOC@2h ≤3 ppb
- 低金属离子析出
- 适用于 18.2 MΩ·cm UPW 系统
技术参数
类型凝胶型强酸/强碱混合床
离子型H⁺/OH⁻ 型
混合比1:1.5（体积比）
交换容量≥1.0 eq/L（总交换容量）
电子级
T-3100 H/OH
高纯水抛光树脂，适用于显示面板、光伏、医药等行业 UPW 终端抛光
核心特性
- 高交换容量
- 优异有机物控制
- 稳定批次一致性
- 适用于 15-18 MΩ·cm UPW 系统
技术参数
类型凝胶型强酸/强碱混合床
离子型H⁺/OH⁻ 型
混合比1:1.5（体积比）
交换容量≥0.9 eq/L（总交换容量）
常见问题
关于产品与应用的常见疑问
P-3100 和 T-3100 的主要区别是什么？
P-3100 面向半导体行业高要求制程，具有更低的 TOC 析出和金属离子析出；T-3100 面向显示面板、光伏、医药等行业，具有更高的交换容量和性价比。
树脂的更换周期是多久？
更换周期取决于进水水质、流量和使用条件。一般情况下，P-3100 在半导体 UPW 系统中可使用 6-12 个月，T-3100 在工业 UPW 系统中可使用 3-6 个月。
是否提供样品测试服务？
是的，我们提供小样测试与旁路验证服务，帮助客户在实际工况下评估产品性能，降低导入风险。